美国官方投资EUV初创企业xLight，引领技术革新，1000W功率光刻机超越ASML四倍效能

美国官方投资了初创企业xLight，该企业致力于开发EUV（极紫外光）技术，其光刻机功率高达1000W，是ASML光刻机的四倍。这一投资将有助于推动美国在半导体制造领域的创新和发展。

电脑知识网12月2日消息，EUV技术对5nm以下的先进工艺已经必不可少，全球唯一能生产EUV光刻机的只有荷兰ASML，美国现在也在这个领域加大了投资，官方下场投资了一家初创企业。

这家公司名为xLight，他们的目标是开发新一代EUV光源，不同于ASML公司复杂的等离子体技术光刻，xLight要开发自由电子激光器FEL为光源的EUV光刻系统，原型计划在2028年问世。

该公司今年7月份获得了4000万美元的投资，日前又获得了美国商务部下属的CHIPS研究与开发办公室(CRDO)的投资，金额为1.5亿美元。

美国商务部长表态，xLight的FEL平台代表突破性创新，将恢复美国领导力、保障供应链，并确保下一代半导体在美国诞生。

值得一提的是，xLight公司的CEO是前Intle CEO基辛格，他之前也提到了这次FEL激光器的重要性，强调复兴摩尔定律并恢复美国在光源技术上的领导力是一代人一次的机会，在联邦政府支持下，xLight将化机遇为现实。

xLight公司的FEL激光器的优点是功率远高于当前的EUV光刻机，可达1000W，而ASML的EUV光源是250W水平，也就是这一点上4倍于当前EUV光刻机，未来的PPT中甚至有2000W功率的。

这样的功率不仅可以大幅提升EUV生产芯片的效率，同时还可以一套FEL光源服务多台光刻机，而且寿命长达30年，极大地降低了芯片光刻环节的成本。

如果联系到前不久美国另一家EUV光源公司Substrate获得投资的新闻，可以看出美国确实想在下一代EUV技术上回到领导地位，虽然当前的EUV光刻机用的光源技术也是美国公司Cymer的，只不过被ASML收购了。

这两家公司一个是X光技术路线，一个是自由激光技术路线的，实际上都跟国内之前疯传的光刻机厂类似，技术优点不少，精度高或者功率大，但是工程化问题很难解决，ASML的EUV依然是当前可量产的最佳技术路线。