国产高端光刻机实现关键突破，芯上微装首台350nm步进光刻机正式发运

国产高端光刻机取得关键突破，芯上微装首台350nm步进光刻机正式发运，这一成就标志着我国在光刻机技术领域迈出了重要一步，对于推动国内半导体产业的发展具有重要意义。此举有望提升我国在高端芯片制造领域的自主创新能力，加速实现产业升级和核心技术自主可控。

电脑知识网11月26日消息，上海芯上微装科技股份有限公司宣布，公司自主研发的首台350nm步进光刻机（AST6200 ）正式完成出厂调试与验收，启程发往客户现场。

芯上微装表示，这标志着我国在高端半导体光刻设备领域再次实现关键突破。

据介绍，AST6200光刻机是芯上微装打造的全自主可控的步进式光刻设备，专为功率、射频、光电子及Micro LED等场景量身定制。

其高分辨率成像满足先进工艺需求，搭载大数值孔径投影物镜，结合多种照明模式与可变光瞳技术，实现350nm高分辨率，满足当前主流化合物半导体芯片的光刻工艺要求。

高精度套刻配置高精度对准系统，实现正面套刻80nm，背面套刻500nm，确保多层图形精准套刻，提升器件良率。

不仅如此，AST6200还搭载芯上微装自主研发的全栈式软件控制系统，从底层驱动到上层工艺管理，实现完全自主主权。

公开资料显示，芯上微装成立于2025年02月，是一家专注于高端半导体装备研发、生产和服务的创新型科技企业，目前主力产品为晶圆级先进封装光刻机、激光退火设备和前道晶圆缺陷检测设备。